步進器（英語：stepper）是半導體器件制造設備之一，并且是縮小投影型曝光設備。硅，如晶片在電路燒傷，在晶片上的抗蝕劑被施加，所述標線片的圖案的投影透鏡，通過投影減少1/4至1/5，同時移動在晶片（工序）曝光到。固定于標線片和在露出所述一個曝光區域晶片曝光和裝置，標線片和晶片同時移動曝光有設備和要。前者通常被稱為“對齊器”，而后者則被稱為“掃描器”。后一種類型適合于小型化，因為它可以使用具有良好特性的透鏡中央部分進行曝光，但標線片和晶片由于必須彼此同步地進行曝光，因此結構變得復雜，并且設備的價格也很昂貴。此外，為了應對最近的小型化，已經投入了實用性，該方法被稱為浸入法，其中投影透鏡和晶片之間的空間填充有液體。從2019年起，將超純水用于浸泡。在浸沒法中，為了避免水對抗蝕劑的影響，通常涂覆稱為面涂層的保護膜。由于面涂層的低疏水性能限制了步進機的生產率，因此化學制造商在開發疏水性能方面的競爭正在加速。

步進器的性能（最小線寬，每單位時間處理的張數）與半導體行業的競爭力直接相關，因此每個公司都在不斷提高。

分辨率是波長成比例，該數值孔徑是成反比的。因此，波長短于可見光的紫外線（準分子激光器）被用作光源，并且具有高紫外線透射率的合成石英，氟化鈣等被用作構成光學系統的透鏡。另外，在近年來已投入實際使用的EUV（極端紫外線）曝光設備的光學系統中，使用由Mo / Si制成的鏡子代替透鏡。（因為EUV不能穿過鏡頭。）

近年來，曝光機采用掃描格式。在通過狹縫進行曝光的同時，在曝光期間，掩模版平臺和晶圓平臺同時沿相反的方向移動，從而可以在保持分辨率的情況下進行更大面積的曝光（例如，以9x25 mm的狹縫對35x25 mm的區域進行曝光）有可能。

這種方法的好處是

1. 平均像差效果（只需要在狹縫處優化曝光鏡頭的光學特性）
2. 用較小的鏡頭實現大的曝光區域（在批量曝光的情況下，鏡頭直徑內刻的正方形是曝光區域，而在掃描儀的情況下，外接的正方形是曝光區域）
3. 原則上，可以進行更好的聚焦控制

由于其種類繁多，因此現在是步進機的主流（粗加工的低價版本除外）。

盡管有許多優點，但是在曝光（同步控制）期間必須以相同的比例同時移動掩模版和晶片，并且實現的障礙很大。