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離子束光刻
編輯離子束光刻是一種以圖案化方式在整個表面上掃描聚焦的離子束以創建非常小的結構（例如集成電路或其他納米結構）的實踐。
離子束光刻比UV、X射線或電子束光刻具有更高的分辨率，因為這些較重的粒子具有更大的動量。這使離子束的波長甚至比電子束的波長小，因此幾乎沒有衍射。動量還減少了目標和任何殘留氣體中的散射。與X射線和電子束光刻相比，對敏感的下層結構的潛在輻射效應也有所降低。
離子束光刻或離子投影光刻與電子束光刻類似，但使用的是重得多的帶電粒子、離子。除了可以忽略不計的衍射之外，離子在真空和物質中的移動路徑都比電子移動的路徑更直，因此似乎具有非常高分辨率的潛力。次級粒子（電子和原子）的范圍很短，因為離子的速度較低。另一方面，對于給定的范圍，更難制造強光源，并且需要更高的加速電壓。由于給定范圍內較高的能量損失率，較高的粒子能量以及不存在明顯的空間電荷效應，散粒噪聲將趨于更大。
快速移動的離子與物質的相互作用不同于電子，并且由于其較高的動量，它們的光學性質也不同。它們的物質范圍短得多，并且在物質范圍內移動得更直。在低能量范圍內，它們失去的能量更多地流向原子核，而不是原子，從而使原子錯位而不是被電離。如果離子沒有從抗蝕劑中擴散出來，它們會對其進行摻雜。物質中的能量損失遵循布拉格曲線，并且統計分布較小。它們在光學上是“刺激物”，它們需要更大的視野或更大的距離才能聚焦或彎曲。較高的動量抵抗空間電荷效應。
對撞機粒子加速器表明，可以非常高精度地聚焦和操縱高動量帶電粒子。
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