薄層電阻
編輯薄層電阻,通常被稱為片材的電阻率,是衡量電阻薄膜是在厚度標稱均勻的。它通常用于表征由半導體摻雜、金屬沉積、電阻膏印刷和玻璃涂層制成的材料。這些過程的示例是:摻雜的半導體區域(例如,硅或多晶硅),以及絲網印刷在厚膜混合微電路基板上的電阻器。
薄層電阻與電阻或電阻率不同,其實用性是使用四端子感應測量(也稱為四點探針測量)直接測量,或使用基于非接觸式渦流的測試設備間接測量。薄層電阻在薄膜觸點的縮放比例下是不變的,因此可以用來比較尺寸明顯不同的器件的電性能。
薄層電阻的測量
編輯使用四點探針來避免接觸電阻,該電阻通常具有與薄層電阻相同的大小。通常,將恒定電流施加到兩個探頭,并使用高阻抗電壓表測量其他兩個探頭上的電勢。需要根據四點陣列的形狀應用幾何因子。兩個常見的陣列是正方形和串聯。
也可以通過將高電導率母線施加到正方形(或矩形)樣品的相對邊緣來進行測量。正方形區域的電阻將以Ω/ sq為單位。對于矩形,添加適當的幾何因子。母線必須進行歐姆接觸。
也使用電感式測量。該方法測量由渦流產生的屏蔽效果。在該技術的一種形式中,將被測導電片放置在兩個線圈之間。這種非接觸式薄層電阻測量方法還可以表征封裝的薄膜或具有粗糙表面的薄膜。
一種非常粗糙的兩點探針法是在探針靠近的情況下測量電阻,在探針相距較遠的情況下測量電阻。這兩個電阻之間的差異約為薄層電阻的數量級。
典型應用
編輯薄層電阻測量通常用于表征導電或半導電涂層和材料的均勻性,例如用于質量保證。典型應用包括對建筑玻璃、晶片、平板顯示器、聚合物箔、OLED、陶瓷等金屬、TCO、導電納米材料或其他涂層的在線過程控制。接觸四點探針通常用于單點測量堅硬或粗糙的材料。非接觸式渦流系統適用于敏感或封裝的涂層,在線測量和高分辨率制圖。
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