對映體過量

在立體化學中，對映體過量（ee）是一種用于手性物質的純度測量。它反映了一個樣品中一個對映體的含量高于另一個對映體的程度。外消旋體混合物的ee值為0%，而一個完全純凈的對映體的ee值為xxx。一個樣品中一個對映體含量為70%，另一個為30%，其e值為40%（70%-30%）。

對映體過量的定義

對映體過量被定義為每個對映體的摩爾分數之間的xxx差異。ee=|FR-FS|{displaystyle{e=|F_{R}-F_{S}|}。其中FR+FS=1{displaystyle{F_{R}+F_{S}=1}}。在實踐中，它最常被表示為對映體過量的百分比。(1)如果我們知道產生的每種對映體的數量，就可以用另一種方式確定對映體過量。如果知道每種對映體的生產摩爾數，那么。(2)對映體過量被用作衡量不對稱合成成功與否的指標之一。對于非對映體的混合物，非對映體過量和非對映體過量百分比有類似的定義和用途。例如，一個R異構體占70%，S占30%的樣品，其對映體過剩百分比為40。這也可以被認為是40%的純R和60%的外消旋混合物（其中一半是30%的R，另一半是30%的S）的混合物。如果給定的對映體過量%ee{displaystyle%ee}混合物的對映體過量混合物中主要異構體的比例，比如說R，可以用以下方法確定FR=50+(%ee/2){displaystyleF_{R}=50+(%ee/2)}。和較小的異構體FS=50-(%ee/2){displaystyleF_{S}=50-(%ee/2)}..兩個對映體的非外消旋混合物將有一個凈光學旋轉。有可能確定該混合物的比旋度，并且在知道純對映體的比旋度后，可以確定光學純度。光學純度（%）=[α]obs/[α]max-100理想情況下，混合物中每種成分對總的旋光度的貢獻與它的摩爾分數成正比，因此，光學純度的數值與對映體的過量相同。這導致人們非正式地將這兩個術語互換使用，特別是因為光學純度是測量對映體過量的傳統方法。然而，其他方法，如手性柱色譜法和核磁共振光譜法現在可以用來單獨測量每個對映體的數量。

對映體過量和光學純度之間的理想等價關系并不總是成立。比如說。(S)-2-乙基-2-甲基琥珀酸的特定旋轉被發現與濃度有關，即所謂的Horeau效應，基于摩爾的e和基于光學旋轉的e之間的關系可能是非線性的，即在琥珀酸的例子中，50%e的光學活性低于預期。對映體過量一詞是由Morrison和Mosher于1971年在其出版物《不對稱有機反應》中提出的。對映體過剩的使用已經確立，因為它與光學旋轉有歷史聯系。有人建議用代表對映體比例或er(S:R)或q(S/R)的er概念取代ee的概念，因為光學純度的測定已被其他直接測量R和S的技術所取代，而且它簡化了數學處理，如平衡常數和相對反應速率的計算。同樣的論點也適用于將非對映體過量（de）改為非對映體比率（dr）。