• 二硅化鉬

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    二硅化鎂(MoSi2,或鉬硅化物),一種金屬化合物,鉬的硅化物,是一種主要用于加熱元件的耐火陶瓷。 密度適中,熔點2030℃,導電。 在高溫下,它會形成二氧化硅鈍化層,防止其進一步氧化。 MoSi2 的熱穩定性及其高發射率使這種材料與 WSi2 一起成為用于進入大氣的隔熱罩中的高發射率涂層的應用。 MoSi2 是一種具有四方晶體結構(α 變體)的灰色金屬外觀材料; 它的β-修飾是六角形的并且不穩定。 不溶于大多數酸,但溶于硝酸和氟酸。

    雖然 MoSi2 在 1000 °C 以上的溫度下具有出色的抗氧化性和高楊氏模量,但在較低溫度下會變脆。 此外,在 1200 °C 以上時,它會失去抗蠕變性。 這些特性限制了它作為結構材料的使用,但可以通過將其與另一種材料一起用作復合材料來抵消。

    應用材料

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    二硅化鍛和MoSi2基材料通常采用燒結法制成。 等離子噴涂可用于生產其致密的整體和復合形式; 由于其快速冷卻,以這種方式生產的材料可能含有一定比例的 β-MoSi2。

    二硅化鉬

    碳化煉加熱元件可用于高達1800°C的溫度,用于玻璃鋼鐵電子、陶瓷生產以及材料熱處理的實驗室和生產環境中使用的電爐。 雖然元件很脆,但它們可以在高功率工作而不會老化,并且它們的電阻率不會隨著工作時間的增加而增加。 由于鈍化層的破壞,它們的最高工作溫度必須在含氧量低的氣氛中降低。

    用于加熱元件的其他陶瓷材料包括碳化硅鈦酸鋇鈦酸鉛復合材料。

    二硅化鈦在微電子學中用作接觸材料。 它通常用作多晶硅線上的分流器,以增加它們的導電性和信號速度

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