X光散射技術是一系列非破壞性分析技術，可揭示有關材料和薄膜的晶體結構、化學成分和物理特性的信息。 這些技術基于觀察 X 射線束撞擊樣品的散射強度作為入射角和散射角、偏振以及波長或能量的函數。

請注意，X 射線衍射現在通常被認為是 X 射線散射的子集，其中散射是彈性的，散射物體是結晶的，因此所得圖案包含通過 X 射線晶體學分析的尖點（如 數字）。 然而，散射和衍射都是相關的一般現象，并不總是存在區別。 因此 Guinier 1963 年的經典著作標題為 X 射線衍射在晶體、不完美晶體和無定形體中，因此“衍射”顯然不限于當時的晶體。

• X 射線衍射或更具體地說是廣角 X 射線衍射 (WAXD)
• 小角度 X 射線散射 (SAXS) 通過測量散射角 2θ 接近 0° 時的散射強度來探測納米到微米范圍內的結構。
• X 射線反射率是一種用于確定單層和多層薄膜的厚度、粗糙度和密度的分析技術。
• 廣角 X 射線散射 (WAXS)，一種專注于大于 5° 的散射角 2θ 的技術。

在 IXS 中，監測非彈性散射 X 射線的能量和角度，給出動態結構因子 S ( q , ω ) {\displaystyle S(\mathbf {q} ,\omega )} 。 由此可以獲得材料的許多特性，具體特性取決于能量轉移的規模。 下表，列出技術，改編自。 非彈性散射的 X 射線具有中間相，因此原則上不適用于 X 射線晶體學。 實際上，由于彈性散射，具有小能量轉移的 X 射線包含在衍射點中，而具有大能量轉移的 X 射線有助于衍射圖案中的背景噪聲。