超純水 (UPW)、高純度水或高純度水 (HPW) 是經過凈化以達到非常嚴格的規格的水。 超純水是制造業中常用的一個術語，用于強調這樣一個事實，即針對所有污染物類型對水進行最高純度處理，包括：有機和無機化合物； 溶解物和顆粒物； 揮發性和非揮發性； 反應性和惰性； 親水性和疏水性； 和溶解的氣體。

UPW 與常用術語去離子 (DI) 水不同。 除了 UPW 去除有機顆粒和溶解氣體這一事實外，典型的 UPW 系統還包括三個階段：生產純凈水的預處理階段，進一步凈化水的初級階段，以及拋光階段，這是最昂貴的部分 治療過程。

許多組織和團體制定并發布了與 UPW 生產相關的標準。 微電子和電力方面，包括Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)（微電子和光伏）、美國材料與試驗協會（ASTM International）（半導體、電力）、電力研究所（EPRI）（電力）、美國 機械工程師協會 (ASME)（電源）和國際水和蒸汽特性協會 (IAPWS)（電源）。 制藥廠遵循藥典制定的水質標準，其中三個例子是美國藥典、歐洲藥典和日本藥典。

最廣泛使用的 UPW 質量要求記錄在 ASTM D5127 電子和半導體行業超純水標準指南和半導體加工超純水 SEMI F63 指南中。

超純水也被用作英國 AGR 船隊的鍋爐給水。

細菌、顆粒、有機和無機污染源因多種因素而異，包括制造超純水的給水，以及用于輸送它的管道材料的選擇。 通常以每體積 UPW 的菌落形成單位 (CFU) 報告細菌。 顆粒使用每體積 UPW 的數量。 總有機碳 (TOC)、金屬污染物和陰離子污染物均以無量綱的單位表示法測量，例如 ppm、ppb、ppt 和 ppq。

細菌被稱為該列表中最頑固的控制之一。 有助于xxx限度減少 UPW 流內細菌菌落生長的技術包括偶爾的化學或蒸汽消毒（這在制藥行業很常見）、超濾（在一些制藥行業，但主要是半導體行業）、臭氧化和優化管道系統設計，以促進 使用最小流量的雷諾數標準，以及最小化死角。 在現代和先進的 UPW 系統中，通常在新建設施中觀察到陽性（高于零）細菌計數。 這個問題可以通過使用臭氧或過氧化氫進行消毒來有效解決。 通過正確設計拋光和分配系統，在 UPW 系統的整個生命周期中通常不會檢測到陽性細菌計數。

UPW 中的顆粒是半導體行業的禍根，會導致定義納米尺寸特征的敏感光刻工藝出現缺陷。 在其他行業，它們的影響可能從令人討厭到危及生命的缺陷不等。 可以通過過濾和超濾來控制顆粒。 來源可能包括細菌碎片、管道濕流中組件壁的脫落，以及用于構建管道系統的連接過程的清潔度。

超純水中的總有機碳可以通過提供養分促進細菌增殖，可以在敏感的熱過程中作為碳化物替代另一種化學物質，以不需要的方式與生物加工中的生化反應發生反應，并且在嚴重的情況下會留下不需要的殘留物 在生產零件上。 TOC 可能來自用于生產 UPW 的進水、來自用于輸送 UPW 的成分（制造管道產品中的添加劑或擠出助劑和脫模劑）、來自管道系統的后續制造和清潔操作，或來自臟管道 、配件和閥門。

超純水系統中的金屬和陰離子污染會關閉生物工藝中的酶促過程，腐蝕發電行業的設備，并導致半導體芯片和光伏電池中的電子元件出現短期或長期故障。 它的來源與 TOC 的來源相似。 根據所需的純度水平，這些污染物的檢測范圍從簡單的電導率（電解）讀數到復雜的儀器。